Ｘ線光電子分光分析装置（XPS)

X線光電子分光分析装置

試料にＸ線を照射した際に、表面から数nmまでの最表面で発生する光電子のエネルギーを測定することで、試料表面に存在する元素と、その結合状態を分析する装置です。Arイオンエッチングにより試料表面を削る度に測定することで、深さ方向の分析が可能です。

表面の変色や超薄膜の分析、機能性多層薄膜の深さ方向分析などに用いることが可能です。

本装置は「令和5年度地方創生推進交付金」により導入しました。

サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）　

Nexsa G2

X線源	AIモノクロメータ
X線照射径	10μm～400μm（5μmステップ）
光電子取込方向	水平に配置した試料に対して鉛直
最大試料サイズ	測定面60×60mm、厚さ20mm
角度分解XPS	最大90°まで傾斜可能
エッチング方式	Arイオン（単原子/クラスター切換可能）
中和機構	低エネルギー電子と低エネルギーArイオンを同時に同軸照射可能

9,960円／1時間

19,330円／1件

9,960円／1時間（線・面・深さ方向分析）

甲府技術支援センター
材料・燃料電池技術部　工業材料科

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